传ASML取消与三星合作的半导体研究设施,转而寻求替代方案

2023年末,三星与ASML签署了一项价值1万亿韩元的协议,双方将在韩国京畿道东滩投资建设半导体芯片研究设施,并在那里共同努力改进EUV光刻制造技术。与此同时,三星还获得了High-NA EUV光刻设备技术的优先权。

据TrendForce报道,ASML现在似乎放弃了与三星的合作建设半导体芯片研究设施,开始将早期购买的土地出售。据了解,ASML在去年购入了6块土地,总面积达到了约19000平方米,其中2块已经出售,另外2块在挂牌出售。至于具体什么原因,或者双方计划有什么改变,暂时还不清楚。

此举引发了外界对ASML与三星合作伙伴关系的质疑,不过有消息称,双方正在寻求更有效的替代方案,比如寻找新地点另外建造研究设施,可能位于华城郊外,甚至可能选择在三星的园区内。由于韩国是ASML的关键市场质疑,随着三星推进先进制程节点的开发,双方应该会继续保持密切合作。根据ASML的报告,韩国成为了其2025年第一季度最大的市场,占总收入的40%,高于2024年第四季度的25%。

三星已经在上月初,在其华城园区引入了首台ASML制造的High-NA EUV光刻机,型号为“TWINSCAN EXE:5000”,主要用于技术研发工作,预计2025年年中开始使用。三星也成为了英特尔(2023年末)和台积电(2024年第三季度)之后,第三家安装High-NA EUV光刻机的半导体制造商。

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